シリコン 比 誘電 率

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東京工業大学 最近の研究成果 研究成果詳細

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東工大 High Kゲート絶縁膜のリーク電流を削減する技術を開発 マイナビニュース

1 3 誘電率と界面準位発生の相関

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絶縁体膜の誘電特性の評価 電子部品の信頼性評価

東工大や富士通 Lsiと光学素子の1チップ化に向けsi基板上に強誘電体結晶膜を形成 日経クロステック Xtech

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小型大容量およびパワーエレクトロニクス向け積層セラミックコンデンサ用誘電体材料の開発 村田製作所

ナノ混合の誘電膜 それを有するキャパシタ及びその製造方法

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